Sistem Litografi Rasuk Elektron JBX-6300FS

JBX-6300FS boleh menulis corak dengan mudah kepada 8nm atau kurang (hasil sebenar: 5nm) dengan menggunakan sistem optik elektron yang secara automatik melaraskan rasuk elektron berdiameter 2.1nm pada voltan pecutan 100kV. Tambahan pula, sistem EB ini mencapai ketepatan jahitan medan dan tindanan yang tinggi 9nm atau kurang, memberikan prestasi kos yang tinggi. Tambahan pula, fungsi pembetulan automatik unik yang dibangunkan oleh JEOL membolehkan penulisan corak ketepatan tinggi. JBX-6300FS bertindak balas kepada pelbagai keperluan, seperti R&D peranti canggih, R&D berkaitan nanoteknologi dan pengeluaran peranti komunikasi.

Ciri-ciri

• JBX-6300FS boleh menulis corak yang sangat tepat walaupun di sudut medan dan sempadan dengan menggunakan sistem optik elektron berkuasa yang secara automatik membetulkan herotan yang dihasilkan oleh pesongan rasuk.

• Memandangkan JBX-6300FS mempunyai peringkat ketepatan tinggi yang menggunakan DAC penentududukan Rasuk sebanyak 19bit dengan resolusi 0.125nm dan interferometer Laser dengan resolusi 0.6nm, ketepatan kedudukan penulisan atas talian 9nm atau kurang dicapai untuk medan kecil untuk bidang yang luas.

• JBX-6300FS mempunyai fungsi pelarasan rasuk automatik, membolehkan pembetulan dos rasuk dan pembetulan kedudukan rasuk semasa penulisan corak.

• Masa pembetulan boleh ditetapkan untuk setiap medan atau setiap corak. Fungsi ini sangat berkesan untuk penulisan jangka panjang tanpa operator, contohnya pada hujung minggu atau cuti berturut-turut.

• JBX-6300FS memendekkan masa penulisan corak secara mendadak kerana kelajuan imbasannya yang tinggi sehingga 50MHz dan juga kerana masa overhed mesin dikurangkan sebanyak mungkin. Operasi sehingga permulaan penulisan adalah sangat mudah serta pemfokusan automatik, sekali gus meningkatkan jumlah daya pengeluaran.

• Jika Pemuat Auto (pilihan) digunakan, JBX-6300FS boleh melakukan penulisan berterusan untuk pemegang spesimen sehingga 10. (Cth: penulisan berterusan sehingga 10 wafer 150mmφ, sehingga 40 wafer 50mmφ, dsb. ※Untuk melakukan berterusan menulis, pemegang sampel bersamaan dengan bilangan bahan). JEOL telah menyampaikan sistem EB sedemikian kepada barisan pengeluaran di Jepun dan luar negara.

• Penggunaan Program Kawalan Fine Pitch (program modulasi halus saiz medan) membolehkan JBX-6300FS membuat grating berkicau seperti laser DFB.

Hasil pengenalan

Lebih daripada 40 tahun, JEOL telah menyampaikan banyak sistem EB kepada institusi penyelidikan dan barisan pengeluaran di Jepun dan luar negara.

spesifikasi

Maklumat lanjut