Sistem Pancaran Berbilang JIB-4610F
DISCONTINUED
JIB-4610F ialah mikroskop elektron pengimbasan jenis kanta luar (SEM) yang mudah digunakan yang dilengkapi dengan senapang elektron Schottky, serta lajur FIB baharu yang mampu memproses arus besar (arus ion maksimum 90nA) dipasang ke dalam satu ruang . JIB-4610F membolehkan pemerhatian SEM resolusi tinggi selepas pengilangan keratan rentas berkelajuan tinggi dengan FIB, dan analisis berkelajuan tinggi dengan pelbagai instrumen analisis, seperti spektroskopi sinar-X (EDS) penyebaran tenaga yang memanfaatkan elektron Schottky pistol yang menghantar arus kuar besar (200nA), pembelauan serakan belakang elektron (EBSD) untuk melaksanakan pencirian kristalografi, dan katodoluminesensi (CLD). Selain itu, fungsi analisis 3D Cut & See disertakan dalam konfigurasi standard, membolehkan pengilangan keratan rentas dilaksanakan secara automatik pada selang masa tetap, sambil memperoleh imej SEM untuk setiap keratan rentas.
Ciri-ciri
Pemprosesan kawasan yang lebih cepat dan lebih luas
Penggunaan lajur FIB baharu menyediakan arus ion maksimum 90nA pada voltan pecutan 30kV, mencapai resolusi 4nm.
Akibatnya, pemprosesan yang lebih pantas daripada yang tersedia dengan instrumen konvensional adalah mungkin. (Pemprosesan lebih 1.5 kali lebih pantas daripada instrumen sedia ada (perbandingan dalaman).) Ini amat berguna untuk memproses kawasan yang besar (isipadu).
Ia juga mungkin untuk mengeluarkan lapisan yang rosak akibat pemprosesan dengan menggunakan pancaran ion dengan voltan pecutan rendah, membolehkan permukaan yang bersih dan digilap diperolehi.
Analisis yang lebih tepat
Lajur pistol elektron dengan arus probe maksimum 200nA menyokong analisis berkelajuan tinggi, resolusi tinggi menggunakan teknik seperti EDS, EBSD dan CLD (pilihan). Analisis berkelajuan tinggi juga menyumbang kepada mengurangkan hanyutan dan kerosakan yang disebabkan oleh pancaran elektron. Lajur senapang elektron Schottky yang terbukti JEOL ini membolehkan pemerolehan data yang sangat boleh dipercayai kerana kestabilan rasuk elektron dan kestabilan mekanikal yang dipertingkatkan.
Pemerhatian 3D, analisis 3D
Dengan menggabungkan pelbagai jenis unit analisis (pilihan) dengan FIB arus besar dan SEM resolusi tinggi yang menggabungkan senapang elektron Schottky, fungsi berikut boleh dicapai:
Pemprosesan dan pemerhatian imej SEM secara automatik dan berterusan menggunakan Cut & See.
Pemerolehan data berterusan secara automatik bagi pemetaan EDS dan EBSD.
Penimbunan dan pertindihan imej yang diperoleh secara berterusan memungkinkan untuk melakukan pelbagai jenis pemerhatian dan analisis tiga dimensi (pilihan). Tambahan pula, data boleh diperoleh untuk sebarang jenis analisis tanpa mencondongkan atau memutar pentas.
Pelbagai aplikasi yang lebih luas
Dengan memasang peringkat penyejukan dan unit Cryo (pilihan), adalah mungkin untuk mengurangkan kerosakan haba akibat penyinaran rasuk ion semasa pemprosesan FIB. Unit Cryo juga berkesan untuk memproses dan memerhati spesimen yang mengandungi air.
Keserasian dengan produk JEOL yang lain
Memandangkan pemegang spesimen untuk JIB-4610F juga boleh digunakan dengan instrumen JEOL FE-SEM, spesimen boleh dimuatkan antara instrumen tanpa memindahkannya kepada pemegang yang berbeza. Ini membolehkan pemerhatian dan pemprosesan yang lebih cekap, dengan penggunaan fungsi navigasi untuk menetapkan dan mencari kedudukan yang dikehendaki untuk pemerhatian dan pemprosesan (pilihan).
Tambahan pula, sebagai pilihan, menggunakan penahan ulang-alik untuk memastikan keserasian antara hujung pemegang TEM dan peringkat siri JIB memudahkan pemasangan sampel, meningkatkan lagi daya pemprosesan.
spesifikasi
| SEM | |
|---|---|
| Pistol elektron | Jenis Pelepasan Medan Schottky |
| Kanta objektif | Kanta objektif ultra-kon |
| Resolusi | 1.2nm (@ Vacc: 30kV), 3.0nm (@ Vacc: 1kV) |
| Mempercepatkan voltan | 0.1 hingga 30kV |
| Arus siasatan | 1pA～200nA |
| Lensa pengoptimuman sudut bukaan | Terbina dalam |
| Pembesaran | x20～x1,000,000 |
| FIB | |
| ION GUN | Sumber Ion Logam Cecair Ga (LMIS) |
| Resolusi | 4 nm (@ Vacc: 30kV) |
| Pembesaran | ×100～300,000 (Pemprosesan) / ×50～300,000 (Pemerhatian) |
| Mempercepatkan voltan | 1～30 kV |
| Arus siasatan | 1 pA～90 nA (@ Vacc: 30kV) |
| Pengesan | Pengesan elektron yang lebih rendah
R-BEI (Pilihan) STEM (pilihan) |
| Gentle Beam (voltan pincang spesimen) | Terbina dalam (Voltan digunakan pada spesimen: 0 hingga -2,000V) |
| Ruang pertukaran spesimen | Terbina dalam |
| Tahap spesimen | 6 paksi, peringkat pacuan motor |
| Jarak perjalanan spesimen | X；50mm、Y；50mm、Z；1.5～41mm、T(condong)；-5～70°, R (putaran)；360°tidak berkesudahan, Fz；-3 hingga +3mm |
| Kaedah pertukaran spesimen | Melontar satu sentuhan |
| Pemegang spesimen | Pemegang standard；φ12.5mm,φ32mm
Pemegang pilihan；φ76.2 pemegang wafer φ100mm pemegang wafer φ125mm pemegang wafer φ150mm pemegang wafer pemegang pukal 2, 4, 6 inci, Pemegang berbilang spesimen permukaan, pemegang STEM, Pemegang penahan ulang-alik, Pemegang satu sentuhan |
| Skop ruang | Kamera ruang spesimen (pilihan) |
| Fungsi auto | Fokus automatik
Kawalan kecerahan automatik |
| Kawalan sistem | PC sistem kawalan SEM
-IBM PC/AT serasi -RAM 4GB atau lebih -OS Windows®7 Professional |
| Pantau | 24 inci |
| Paparan Imej | Kawasan paparan imej 1,280×980 piksel atau 640×480 piksel
(saiz GUI: 1,600×1,200) |
| Mod paparan | Standard； SEM_SEI, FIB_SEI, SEM_MIX
Pilihan； SEM_COMPO, SEM_TOPO, SEM_TED, AUX |
| Mod pengimbasan/ Paparan | Imbasan kawasan terhad, Imej tambahan, Penskala,
Paparan skrin； 1 skrin, 2 skrin (standard), 4 skrin |
| Vakum muktamad | HV；2.0×10E-4Pa (Apabila GIS digunakan；＜3.0E－3Pa) |
| Sistem pemindahan | SIP×2 (SEM),
SIP×1 (FIB), TMP×1, RP×1 |
| Penggunaan tenaga | Semasa operasi biasa lebih kurang. 2.0kVA |
| CO2 setara pelepasan | CO Tahunan2 pelepasan Semasa operasi biasa 4,967kg |
| Peralatan keselamatan | Perlindungan daripada kehilangan vakum, kegagalan kuasa, kebocoran air, kehilangan tekanan gas N2, dan arus bocor. |
| Jejak | 3,200mm atau lebih × 3,000mm atau lebih |
| Keperluan pemasangan | Bekalan kuasa
Fasa Tunggal 200 V, 50/60 Hz, maks. 6kVA, Penggunaan biasa lebih kurang. 2.0kVA Turun naik bekalan kuasa input yang dibenarkan dalam ±10％ Terminal pembumian 100Ω atau kurang x 1 air penyejukan Bekalan paip keluar.dia. 14 mm x 1, atau JIS B 0203 Rc 1/4 x 1 Kadar aliran 0.5 L/min Tekanan air 0.1 hingga 0.25 MPa (tekanan tolok) Suhu air 20℃± 5℃ Toskan dalam.dia. 25 mm atau lebih x1, atau JIS B 0203 Rc 1/4 x 1 Gas nitrogen kering JIS B 0203 Rc 1/4 (disediakan oleh pengguna) Tekanan 0.45 hingga 0.55 MPa (tekanan tolok) Bilik Pemasangan Suhu bilik 20℃±5℃ Kelembapan 60％ atau lebih rendah Medan magnet sesat 0.3μT (PP) atau kurang (gelombang sinus 50/60 Hz)*1 Getaran lantai 2μm (PP) atau lebih rendah*1 pada frekuensi gelombang sinus lebih daripada 5Hz. *1 Bunyi 70 dB atau lebih rendah *1 untuk ciri FLAT Dimensi bilik pemasangan 3,000 mm x 3,000 mm atau lebih Ketinggian 2,300 mm atau lebih tinggi Saiz pintu 1,000 mm * 2 (w) x 2,000 mm(H) atau lebih
|
| Pilihan utama | GIS (C, W, Pt), EDS, WDS, EBSD, CL, Cryo, Kamera Chamber, SNS, dsb. |
Windows adalah tanda dagangan berdaftar Microsoft Corporation di Amerika Syarikat dan negara-negara lain.
Kesesuaian
Permohonan JIB-4610F
Perbandingan Kaedah Pengimejan 3D dalam Mikroskopi Elektron untuk Biobahan
Galeri
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.