Siri BS/JEBG/EBG
Sumber Rasuk Elektron
Sumber rasuk elektron / bekalan kuasa untuk pemendapan rasuk elektron yang digunakan untuk mencipta pelbagai jenis filem, termasuk filem optik dan salutan elektrod.
Ciri-ciri
Ciri-ciri kaedah pemendapan rasuk elektron
Kecekapan haba agak baik disebabkan oleh pemanasan daripada penyinaran langsung pancaran elektron ke bahan pemendapan. Ia adalah mungkin untuk mengewapkan pelbagai bahan, termasuk logam takat lebur tinggi, oksida, sebatian dan bahan pemejalwapan.
Memandangkan bahan pemendapan dipanaskan terus dalam mangkuk pijar yang disejukkan air(*), tiada tindak balas bot atau pijar seperti kaedah pemanasan rintangan atau pemanasan induktif.
Pelapik perapian digunakan dalam beberapa kes
Memandangkan kawalan keluaran berkelajuan tinggi tersedia, adalah mungkin untuk mengawal ketebalan filem dengan tepat.
Berbanding dengan kaedah sputtering dan CVD, kelajuan penghasilan filem adalah ciri utama. Ini juga berguna untuk mencipta salutan tebal 1µm atau lebih.
Ciri-ciri sumber pancaran elektron JEOL
[ Oksida ]
Mempunyai sudut kejadian rasuk berserenjang dengan bahan pemendapan, dan tempat rasuk berketumpatan tenaga tinggi yang hampir bulatan sempurna. Memandangkan fungsi sapuan berkelajuan tinggi adalah standard, ia sesuai untuk pemendapan pada bahan pemejalwapan dan oksida dengan kekonduksian terma yang rendah dan takat lebur yang tinggi. Boleh mendapatkan sisa cair yang sangat baik, membolehkan pengagihan ketebalan filem yang seragam dan boleh dihasilkan semula di kawasan yang luas.
[ Logam ]
Pilihan daripada pelbagai jenis crucible tersedia, membolehkan pemendapan berbilang jenis, volum besar dan kadar tinggi. Terdapat juga senapang elektron yang serasi dengan proses pengangkatan untuk mengehadkan peningkatan suhu semasa pembuatan filem.
[ Salutan aloi/ berbilang lapisan ]
Salutan aloi dan berbilang lapisan boleh dibuat dengan meletakkan bahan berbeza ke dalam mangkuk pijar 2 atau 3 poket bersebelahan dan melakukan pemendapan 2 atau 3 sumber serentak menggunakan pengawal sapuan khas.
Pautan produk berkaitan
BS-60211DEM/BS-60210DEM Sumber Rasuk Elektron
spesifikasi
| model | Maks. pengeluaran | Pesongan sudut |
Filamen | Sapu rasuk | Crucible | Oksida | Logam |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BS-60070DEBS | 6.4kW | 270 ° | berbentuk Ｕ (panjang umur) |
Kelajuan tinggi pengimbasan |
tiada※ 2 | ◎ | ○ |
| BS-60060DEBS | 6.4kW | 270 ° | tiada※ 2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60050EBS | 10kW | 270 ° | tiada※ 2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60040VDGN | 10kW | 270 ° | tiada※ 2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60030DGN | 10kW | 270 ° | tiada※ 2 | ◎ | ○ | ||
| EBG-102UB6S | 10kW | 180 ° | Spiral | 12cc×6 tempat | ◎ | ○ | |
| EBG-102UB4S | 10kW | 180 ° | 12cc×4 tempat | ◎ | ○ | ||
| JEBG-102UH0 | 10kW | 180 ° | tiada※ 2 | ◎ | ○ | ||
| BS-60210DEM ＋BS-60140H4H |
10kW | 270 ° | Gegelung lurus (Panjang umur) |
sederhana kelajuan pengimbasan |
40cc×4 tempat | △ | ◎ |
| BS-60210DEM ＋BS-60150H6H |
10kW | 270 ° | 40cc×6 tempat | △ | ◎ | ||
| EBG-203UB6S | 20kW※ 1 | 270 ° | Spiral | Kelajuan tinggi pengimbasan |
12cc×6 tempat※ 3 | ○ | ◎ |
| EBG-203UB4H | 20kW※ 1 | 270 ° | 12cc×2 spot 28cc (separuh sfera)×2 titik |
○ | ◎ | ||
| JEBG-203UA0 | 20kW※ 1 | 270 ° | tiada※ 4 | ○ | ◎ | ||
| JEBG-303UA | 30kW※ 1 | 270 ° | tiada※ 5 | ○ | ◎ |
Memandangkan output maksimum bekalan kuasa EB ialah 16 kW, output maksimum sebenar yang boleh digunakan ialah 16 kW.
Tersedia sebagai pesanan khas ⇒12cc×4 atau 6 tempat, dsb.
Variasi bentuk perigi mangkuk pijar tersedia ⇒ 28cc（φ45×20j）×6 spot， 51cc（φ60×20j）×3 spot, dsb.
Tersedia sebagai pesanan khas ⇒40cc（φ50×25j）×4 atau 6 tempat， 114cc（φ75×30j）×1 tempat , dsb.
Tersedia sebagai pesanan khas ⇒114cc（φ75×30j）×1 tempat， φ34×20j×3 lubang dalam 1 poket (untuk pemendapan serentak), φ70×30j×4 tempat, dsb.
Sila tanya tentang spesifikasi crucible
Muat turun Katalog
Sumber Pancaran Elektron siri BS/JEBG/EBG
Produk Berkaitan
Sumber Rasuk Elektron BS-60060DEBS
Sumber pancaran elektron memberikan pengecilan muktamad dos elektron yang terserak belakang kepada substrat. Semua ciri dan prestasi BS-60050EBS, dengan penambahan filamen hayat lebih lama dan kebolehulangan yang dipertingkatkan.
BS-60211DEM/BS-60210DEM Sumber Rasuk Elektron
Sumber rasuk elektron untuk pemendapan logam vakum sesuai untuk proses suhu rendah seperti proses angkat keluar untuk aplikasi filem elektrod. Sumber e-rasuk ini dilengkapi dengan perangkap elektron terserak belakang dan direka bentuk untuk mengelakkan pencemaran silang.
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.