Sumber pancaran elektron untuk pemendapan logam vakum sesuai untuk proses suhu rendah seperti proses angkat keluar untuk aplikasi filem elektrod.
Sumber e-beam ini dilengkapi dengan perangkap elektron berselerak belakang dan direka untuk mencegah pencemaran silang.
Ciri-ciri
Pemendapan suhu rendah dan kerosakan rendah
Perangkap elektron berselerak belakang berkecekapan tinggi dilengkapi dalam konfigurasi standard, membolehkan untuk menangkap elektron terpantul yang meresap.
Dan kesan penyejukan yang dipertingkatkan bagi sumber e-beam boleh menurunkan haba sinaran dari sekitar sumber penyejatan.
Kedua-dua kesan ini membolehkan untuk mengurangkan peningkatan suhu substrat semasa pemendapan kadar tinggi bahan logam.
Dan juga boleh mengurangkan kerosakan pada substrat dan/atau lapisan bawah yang disebabkan oleh penyinaran elektron yang dipantulkan.
Senjata elektronik konvensional menyebabkan kenaikan suhu substrat semasa pemendapan vakum disebabkan oleh kesan haba elektron terserak belakang dan haba sinaran dari sekitar sumber penyejatan.
Dinding ruang, plat tapak dan penutup dipanaskan dengan memukul elektron berselerak belakang dan kemudian haba sinaran sekunder dan tertiari timbul dari sana.
Apabila elektron berselerak belakang menyinari substrat secara langsung, suhu substrat meningkat dengan tinggi.
Nisbah pelepasan elektron pantulan
Bahan nombor atom yang lebih tinggi mencerminkan lebih banyak elektron.
Emas dan platinum mengeluarkan hampir separuh elektron.
Tenaga elektron pantulan hampir sama dengan tenaga kejadian.
Apabila voltan pecutan sumber e-beam ialah -10kV, tenaga elektron yang dipantulkan adalah lebih kurang. 10kV.
Pemendapan filem tebal / Salutan berbilang lapisan
Kapasiti besar pilihan 40 ml pijar (4 poket atau 6 poket) membolehkan pemendapan filem tebal dan/atau salutan berbilang lapisan dengan menggunakan beberapa bahan penyejatan.
Pencegahan pencemaran silang
Elakkan pencemaran bahan sejat daripada mengalir masuk ke dalam poket bersebelahan.
penyelenggaraan mudah
Setiap penutup boleh ditanggalkan dengan mudah, oleh itu pembersihan bahan penyejatan termendap tidak memerlukan banyak masalah.
Pistol pilihan boleh ditanggalkan dan diasingkan daripada e-gun. Dan perapian atas boleh ditukar.
Jangka hayat filamen adalah panjang dan pertukaran filamen juga mudah.
Contoh kadar pemendapan bahan logam
Proses pengangkatan
Aliran proses pembentukan filem lepas angkat
Mampu mengekalkan suhu substrat semasa pemendapan vakum kurang daripada 100 darjah C.
Oleh itu, boleh menghalang ubah bentuk corak rintangan, menjadikannya mungkin untuk meningkatkan nisbah hasil proses angkat.
Contoh aplikasi: Pembentukan filem elektrod LED, penapis SAW, semikonduktor Kuasa, MEMS, dsb.
spesifikasi
| BS-60211DEM | Sumber pancaran elektron （output maksimum 10 kW） |
|---|---|
| BS-60210DEM | Sumber pancaran elektron (output maksimum 10 kW) |
| BS-60141H4M | 40ml (Φ50mm×25mmH) × 4-poket pijar |
| BS-60140H4M | 40ml (Φ50mm×25mmH) × 4-poket pijar |
| BS-60151H6M | 40ml (Φ50mm×25mmH) × 6-poket pijar |
| BS-60150H6M | 40ml (Φ50mm×25mmH) × 6-poket pijar |
Perbezaan model sumber pancaran elektron dan crucible hanyalah sambungan paip air penyejuk.
dimensi luaran
Panjang pijar 4 poket ialah 220mm
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.