JBX-9500FS ialah sistem EB 100kV yang menyediakan daya pemprosesan peringkat tertinggi dunia dan ketepatan kedudukan antara sistem litografi pancaran titik. Sistem EB ini boleh memuatkan sehingga wafer 300mmΦ dan topeng sehingga 6 inci, sekali gus bertindak balas kepada R&D dan pengeluaran dalam pelbagai bidang, seperti cetakan nano, peranti fotonik dan peranti komunikasi.
Ciri-ciri
Selain kelajuan imbasan maksimum 100MHz, JBX-9500FS mencapai ketepatan tindanan ±11nm, ketepatan jahitan medan ±10nm dan ketepatan kedudukan dalam medan ±9nm apabila saiz medan ialah 1000µm×1000µm. Oleh itu, JBX-9500FS ialah sistem EB 100kV yang menyediakan daya pemprosesan peringkat tertinggi dunia dan ketepatan kedudukan antara sistem litografi pancaran titik.
Memandangkan JBX-9500FS menggunakan DAC penentududukan Pancaran sebanyak 20bit dan Imbas DAC sebanyak 14bit, langkah imbasan resolusi lebih tinggi sebanyak 0.25nm diperoleh untuk menambah data menulis sebanyak 1nm, dengan itu menghasilkan semula data penulisan yang lebih tepat.
Kelajuan imbasannya yang tinggi sehingga 100MHz membolehkan JBX-9500FS mengekalkan langkah imbasan pendek pada penulisan arus besar, sekali gus meningkatkan daya pemprosesan walaupun ketika penulisan corak berketepatan tinggi diperlukan.
Ketepatan kedudukan kelas atas dunia dicapai oleh LBC (kawalan pancaran laser) yang menyediakan langkah penentududukan pancaran minimum resolusi tinggi 0.15nm (λ/4096).
Tambahan pula, fungsi penentukuran automatik unik (fungsi pembetulan automatik) yang dibangunkan oleh JEOL mencapai penulisan corak yang sangat boleh dipercayai dan stabil untuk jangka masa yang panjang. Masa pembetulan automatik boleh ditetapkan untuk setiap medan atau setiap corak. Fungsi ini sangat berkesan untuk penulisan jangka panjang tanpa operator, contohnya pada hujung minggu atau cuti berturut-turut.
JBX-9500FS boleh memuatkan sehingga wafer 300mmΦ dan topeng sehingga 6 inci, sekali gus bertindak balas kepada R&D dan pengeluaran dalam pelbagai bidang, seperti cetakan nano, peranti fotonik dan peranti komunikasi. Menambah sistem pemindahan kaset bahan (pilihan) membolehkan sistem EB ini memuatkan sehingga 10 kaset.
Penggunaan Program Kawalan Fine Pitch (program modulasi halus saiz medan) membolehkan JBX-9500FS membuat grating berkicau seperti laser DFB.
Hasil pengenalan
Lebih daripada 40 tahun, JEOL telah menyampaikan banyak sistem EB kepada institusi penyelidikan dan barisan pengeluaran di Jepun dan luar negara.
spesifikasi
| Pistol elektron | ZrO/W Jenis Shottky |
|---|---|
| Kaedah penulisan | Rasuk titik, Imbasan vektor, Langkah & ulangi |
| Acc. voltan | 100kV |
| Saiz bahan | Saiz bahan (mungkin untuk dimuatkan): Wafer sehingga 300mmΦ, Topeng sehingga 6 inci, Sampel mikro sebarang saiz |
| Saiz medan maksimum | 1000µm×1000µm |
| Julat pergerakan pentas | 260mmX240mm |
| Unit kawalan peringkat | 0.15nm（λ/4096） |
| Ketepatan tindanan | ≦±11nm |
| Ketepatan jahitan lapangan | ≦±10nm （medan 1000µm×1000µm） |
| Ketepatan kedudukan dalam satah medan | ≦±9nm（medan 1000µm×1000µm） |
| DAC kedudukan rasuk | 20bit |
| Kelajuan imbasan | Sehingga 100MHz |
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.