JBX-3200MV ialah sistem litografi rasuk elektron berbentuk pembolehubah untuk pembuatan topeng 28 nm hingga 22/20 nm nod. Teknologi canggihnya mencapai kelajuan tinggi, ketepatan tinggi dan kebolehpercayaan yang tinggi. Sistem EB ini menggunakan rasuk elektron 50 kV berbentuk berubah-ubah dan peringkat spesimen langkah-dan-ulang.
Ciri-ciri
Dengan menggunakan merit kaedah penulisan langkah-dan-ulang, sistem EB ini menggabungkan pelbagai fungsi seperti fungsi modulasi dos penulisan dan fungsi penulisan tindanan, dengan itu memungkinkan untuk menyokong pembetulan serba boleh yang diperlukan untuk mencorak topeng generasi akan datang dan retikel.
Kedai topeng tawanan dan kedai topeng saudagar di Jepun dan luar negara
(Nama pelanggan tidak didedahkan)
Kedai topeng tawanan dan kedai topeng saudagar di Jepun dan luar negara
(Nama pelanggan tidak didedahkan)
spesifikasi
| Ketepatan jahitan | ≦±3.5 nm |
|---|---|
| Ketepatan tindanan | ≦±5 nm |
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.