Mikroskop Elektron Pengimbasan Pelepasan Medan JSM-7610FPlus Schottky
DISCONTINUED
Ciri-ciri
Ciri-ciri
Sistem optik JSM-7610F yang terkenal telah dikemas kini, mencapai resolusi yang lebih baik (15 kV 0.8 nm, 1 kV 1.0nm), dan kini boleh didapati sebagai JSM-7610FPlus.
Kanta objektif jenis kanta Semi-dalam dan Optik Kuasa Tinggi sistem penyinaran menyampaikan pemerhatian resolusi spatial tinggi dan keupayaan analisis yang stabil.
Selain itu, JSM-7610FPlus boleh dilengkapi untuk memenuhi pelbagai keperluan pengguna, termasuk pemerhatian pada voltan pecutan rendah dengan mod GENTLEBEAM™, dan pemilihan isyarat menggunakan penapis-r.
Kanta Objektif Kanta Separuh dalam
Reka bentuk kanta objektif separa dalam membolehkan pemerhatian resolusi ultra tinggi dengan pengesan dalam kanta.
Optik Kuasa Tinggi
Sistem optik elektron yang unik membolehkan pelbagai analisis dan pemerhatian pada pembesaran tinggi. Pistol elektron pelepasan medan Schottky dalam kanta, yang boleh menghantar arus probe 10 kali ganda daripada pistol elektron pelepasan medan Schottky (FEG) konvensional, bersama-sama dengan kanta kawalan sudut bukaan (ACL) yang boleh mengekalkan diameter probe kecil dengan sudut penumpuan yang sesuai walaupun dengan arus probe meningkat, memungkinkan untuk menggunakan arus probe 200 nA atau lebih. Optik berkuasa tinggi menyediakan semua prestasi yang anda perlukan untuk menjalankan segala-galanya daripada tontonan pembesaran tinggi kepada analisis EDS dan EBSD.
Pistol Elektron Schottky dalam kanta
Senapang elektron pelepasan medan Schottky dalam kanta menggabungkan senapang elektron dengan kanta pemeluwap penyimpangan rendah untuk membolehkan pengumpulan elektron yang cekap yang dihasilkan daripada senapang elektron.
Kanta Kawalan Sudut Apertur (ACL)
Kanta Kawalan Sudut Apertur (ACL) diletakkan di atas kanta objektif untuk melakukan pengoptimuman automatik sudut bukaan lensa objektif merentasi keseluruhan julat arus probe. Ini memungkinkan untuk mendapatkan diameter probe yang lebih kecil daripada yang mungkin dengan sistem konvensional, walaupun semasa arus probe adalah besar.
Diameter Probe Kecil, Walaupun Dengan Arus Probe Besar
Arus Siasatan Sangat Stabil untuk masa analisis lanjutan
Pistol elektron pelepasan medan Schottky yang dipinjamkan menyampaikan arus probe yang stabil.
Mod GENTLEBEAM™
Dalam mod GENTLEBEAM™ (mod GB), voltan digunakan pada spesimen untuk mengurangkan voltan pendaratan elektron sejurus sebelum ia memukul spesimen, membolehkan pemerhatian resolusi tinggi dengan voltan pecutan serendah 100 V.
Memandangkan kawasan serakan pancaran elektron dalam spesimen adalah kecil, mudah untuk memerhatikan struktur mikro pada permukaan, dan pengaruh ke atas spesimen yang terdedah kepada kerosakan haba dapat dikurangkan. Spesimen bukan konduktif boleh dilihat dengan mudah dengan pengecasan yang dikurangkan. Mod GB resolusi 1 kV dengan JSM-7610FPlus ialah 1.0 nm.
Kesan Mod GB
Mod GB meningkatkan resolusi pada voltan pecutan rendah.
Resolusi Diperbaiki pada Voltan Pecutan Rendah
r-penapis
Penapis r generasi seterusnya
Penapis r generasi seterusnya ialah penapis tenaga unik yang menggabungkan elektrod kawalan elektron sekunder, elektrod kawalan elektron berselerak belakang dan elektrod penapis. Apabila permukaan spesimen disinari oleh pancaran elektron, elektron dengan pelbagai tenaga dipancarkan dari permukaan. Penapis r baharu memungkinkan untuk mengesan elektron sekunder dan elektron berselerak belakang secara terpilih daripada spesimen manakala pancaran elektron dipegang di tengah kanta menggunakan gabungan pelbagai medan elektrostatik.
Berbanding dengan penapis r model sebelumnya, penapis r generasi seterusnya mempunyai peningkatan isyarat 3 kali ganda.
Pengesanan Isyarat Dengan Penapis r Baharu
Pengesan LABE (Pilihan)
Pengesan LABE (Low Angle Backscatter Electron) mampu mengesan tenaga yang sangat rendah dan elektron berselerak belakang sudut sangat rendah yang sebelum ini tidak dapat dikesan.
Maklumat topologi terperinci permukaan spesimen boleh diperolehi pada voltan pecutan yang sangat rendah, dan maklumat komposisi untuk spesimen boleh diperhatikan dengan resolusi yang baik pada voltan pecutan tinggi.
Pengesan LABE: Imej Elektron Terserak Belakang Sudut Rendah
Kontras penyaluran butiran kristal filem nipis boleh diperhatikan menggunakan elektron berselerak belakang dengan voltan pecutan yang sangat rendah.
Keluasan
Spektrometer X-ray Penyerakan Tenaga (EDS)
Optik Kuasa Tinggi membolehkan anda memanfaatkan secara berkesan ciri pengesan EDS (SDD: Silicon Drift Detector) yang sukar untuk tepu walaupun dengan arus probe yang besar. Dengan menggunakan voltan pecutan rendah dan arus probe yang besar, pemetaan kualiti yang baik boleh diperolehi dalam tempoh masa yang sangat singkat. Imej di bawah menunjukkan analisis lapisan graphene dan grafit yang sangat nipis pada substrat Ni yang diperolehi dalam masa 2 minit.
Walaupun menggunakan pengesan SSD 10 mm2 jenis asas, adalah mungkin untuk menganalisis keratan rentas filem berbilang lapisan kira-kira 100 nm dalam masa 30 saat sahaja.
Spektrometer X-ray Penyebaran Panjang Gelombang (WDS)
Oleh kerana Optik Kuasa Tinggi menyediakan arus probe yang besar dengan diameter probe yang kecil, adalah mungkin untuk memanfaatkan sepenuhnya ciri-ciri WDS. Menggunakan WDS membolehkan pengesahan perbezaan kepekatan surih atau pertindihan unsur dalam spesimen, yang tidak boleh dikenal pasti dengan EDS.
Pengesan Cathodoluminescence (CL)
CL ialah fenomena cahaya nampak yang dijana apabila spesimen terdedah kepada pancaran elektron. Cahaya yang dihasilkan daripada spesimen dikumpul menggunakan cermin fokus dan dikesan. Imej-imej di bawah ialah imej elektron sekunder dan imej CL yang diperoleh dengan kekisi pembelauan berlian pada 1 kV. Memerhati imej CL dengan voltan pecutan rendah mendedahkan kecacatan pada permukaan berlian dengan resolusi yang baik.
Ruang Spesimen Dioptimumkan untuk Analisis
Ruang spesimen direka bentuk untuk membenarkan pemasangan pelbagai pengesan dalam susun atur yang optimum, termasuk pengesan elektron sekunder, pengesan elektron berselerak belakang, EDS, EBSD, WDS, STEM dan pengesan katodoluminesen.
Pengesan elektron sekunder, EDS dan EBSD diletakkan untuk membolehkannya dilihat pada masa yang sama pada spesimen senget, dengan port EBSD berserenjang dengan kecondongan eusentrik pada pentas.
spesifikasi
Resolusi imej elektron sekunder |
0.8 nm(Voltan pecutan 15 kV) 1.0 nm(Mod voltan pecutan 1 kV GB) 0.8 nm(Mod GBSH voltan pecutan 1 kV)※ 1 Semasa analisis 3.0 nm (Voltan pecutan 15 kV, WD 8 mm, Arus siasatan 5 nA) |
||
---|---|---|---|
Pembesaran |
Pembesaran langsung: x25 hingga 1,000,000(120 x 90mm) Pembesaran paparan: x75 hingga 3,000,000(1,280 x 960 piksel) |
||
Mempercepatkan voltan | 0.1 hingga 30 kV | ||
Arus siasatan | Beberapa pA hingga ≥ 200 nA | ||
Pistol Elektron | Pistol elektron pelepasan medan Schottky dalam kanta | ||
Sistem kanta |
Kanta pemeluwap (CL) Kanta kawalan sudut bukaan (ACL) Kanta objektif kanta separuh dalam (OL) |
||
Tahap spesimen | Peringkat goniometer eusentrik sepenuhnya | ||
Pergerakan spesimen |
Tahap spesimen Standard |
Pilihan | Pilihan |
jenis I A2 X : 70 mm Y : 50 mm Z : 1.0 hingga 40 mm Condongkan: -5 hingga +70° Putaran: 360 ° |
jenis II X : 110 mm Y : 80 mm Z : 1.0 hingga 40 mm Condongkan: -5 hingga +70° Putaran: 360 ° |
jenis III X : 140 mm Y : 80 mm Z : 1.0 hingga 40 mm Condongkan: -5 hingga +70° Putaran: 360 ° |
|
Pemegang spesimen | 12.5 mm diameter × 10 mm tebal, 32 mm diameter × 20 mm tebal | ||
Pertukaran spesimen | Mekanisme pertukaran satu tindakan | ||
Sistem pengesan elektron | Pengesan atas, penapis-r, Terbina dalam, Pengesan bawah | ||
Fungsi Automatik | Fokus, Stigmator, Kecerahan, Kontras | ||
LCD cerapan imej | Saiz skrin: 23 inci lebar Peleraian maksimum: 1,280 × 1,024 piksel |
||
Sistem Kawalan SEM | PC: Komputer serasi IBM PC/AT OS: Windows® 7 Professional※ 2 |
||
Mod imbasan dan paparan |
Imbasan bingkai penuh Pembesaran sebenar Imbasan kawasan terpilih Paparan dua imej (dengan pembesaran berbeza, mod imej berbeza) Paparan lebar dua imej Paparan empat imej (paparan langsung empat isyarat) Imej tambahan (4 imej + imej tambahan) Skala |
||
Sistem Pemindahan |
Ruang pistol, ruang perantaraan pertama dan kedua: Sistem pemindahan kering vakum ultra tinggi menggunakan pam ion Ruang spesimen: Sistem pemindahan kering menggunakan pam molekul turbo (TMP) |
||
Tekanan muktamad |
Ruang senjata: Urutan 10-7 Pa (untuk konfigurasi standard) Ruang spesimen: Urutan 10-4 Pa (untuk konfigurasi standard) |
Pilihan
Microsoft Windows ialah tanda dagangan berdaftar Microsoft Corporation di Amerika Syarikat dan negara lain
Muat turun Katalog
Mikroskop Elektron Pengimbasan Pelepasan Medan JSM-7610FPlus Schottky
Kesesuaian
Aplikasi JSM-7610FPlus
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.