BS-80011BPG
Sumber Plasma berkuasa tinggi
untuk plasma berketumpatan tinggi

Sumber plasma dimasukkan ke dalam ruang vakum dan menjana plasma berketumpatan tinggi. Sumber plasma boleh digunakan sebagai Pemendapan Berbantu Plasma (Penyaduran Ion) dan adalah mungkin untuk menambah baik sifat filem untuk filem nipis optik, filem pelindung dan filem fungsi. Dan juga boleh digunakan untuk rawatan plasma seperti pembersihan dan pengubahsuaian permukaan.

Ciri-ciri

Plasma voltan rendah dan arus besar membolehkan untuk mengion dan merangsang molekul gas dan zarah tersejat.
Pemendapan reaktif adalah mungkin, terutamanya sesuai untuk promosi pengoksidaan filem. 
Plasma berketumpatan tinggi boleh dijana dalam ruang jisim, oleh itu pemendapan kadar tinggi ke kawasan yang besar adalah mungkin.
Retrofit ke ruang vakum sedia ada adalah mungkin.

Kesan

Penambahbaikan ketumpatan filem, indeks biasan
Pengeluaran filem yang stabil alam sekitar
Peralihan panjang gelombang rendah
Penyerapan optik rendah (promosi pengoksidaan filem) 
Penambahbaikan lekatan filem
Penambahbaikan kekasaran permukaan
Kawalan tekanan filem

spesifikasi

Keluaran plasma maksimum: 6kW (160V, 38A)
Tekanan operasi: 1×10^-2 hingga 1 × 10^-1Pa (Ar, O₂, N₂ suasana)
Gas nyahcas(Ar) ： 8 hingga 20mL/min
Air penyejuk: 7 hingga 10L/min
Kaedah pancaran ： boleh dipilih daripada pancaran-pantulan dan pancaran-penyinaran

Muat turun Katalog

BS-80011BPG Sumber Plasma berkuasa tinggi untuk plasma berketumpatan tinggi

Produk Berkaitan

Produk Berkaitan

Sumber Plasma BS-80020CPPS untuk Proses Suhu Rendah

Sumber plasma ini dikhususkan untuk proses suhu rendah, contohnya untuk substrat/filem plastik. Kualiti filem bagi filem terdeposit vakum boleh dipertingkatkan dengan pemendapan dibantu plasma dengan menurunkan peningkatan suhu substrat. Dan juga boleh digunakan untuk rawatan plasma seperti pembersihan dan pengubahsuaian permukaan.

Maklumat lanjut