【DITUTUP】Sistem Pemeriksaan Proses Wafer JWS-3000
DISCONTINUED
Produk ini tidak lagi tersedia.
Jika anda ingin mengetahui maklumat terkini tentang produk pilihan anda atau untuk mengetahui lebih lanjut tentang alternatif, sila klik pada pautan di bawah. Kami berharap anda akan terus menggunakan produk kami.
Untuk meningkatkan hasil dalam proses pembuatan semikonduktor, punca kecacatan mesti diperiksa oleh kedua-dua pemerhatian visual dan analisis unsur dalam SEM.
Ciri-ciri
Untuk meningkatkan hasil dalam proses pembuatan semikonduktor, punca kecacatan mesti diperiksa oleh kedua-dua pemerhatian visual dan analisis unsur dalam SEM.
JWS-3000 boleh memautkan data koordinat, memindahkan pentas ke kedudukan kecacatan dengan mudah, dan kemudian memeriksa & memerhatikannya pada SEM resolusi tinggi dengan menggunakan rangkaian dalam talian ke pelbagai jenis sistem pemeriksaan kecacatan optik. Menggunakan ADR (Auto Defect Review) dan ADC (Auto Defect classification), JWS boleh mengumpul data kecacatan secara automatik dan mengelaskan untuk mencari sumber dengan cepat. Ciri penting ialah kemudahan operasi tanpa latihan khas.
Dengan menggunakan kanta objektif super-kon, wafer boleh dicondongkan sehingga 45° tanpa mengubah jarak kerja. Resolusi tinggi dikekalkan walaupun dalam pemerhatian condong.
Ia tidak perlu melaraskan setiap paksi dengan keadaan pemerhatian yang berubah-ubah. JWS boleh dilengkapi dengan pelbagai fungsi pilihan seperti; Pengukuran CD, mikroskop optik, EDS, INDEXER dll.
Voltan pecutan: 0 ~ 15kV
Resolusi: 3nm pada 1 kV
Kestabilan Rasuk jangka panjang oleh Rasuk Elektron TFE (berkelip tidak diperlukan)
Imej resolusi tinggi pada 45° Condongkan wafer 300mm dengan menggunakan kanta objektif super-kon
Operasi Mesra Pengguna dengan GUI lanjutan
Pemeriksaan kecacatan throughput tinggi dalam talian dengan komunikasi kepada sistem pemeriksaan kecacatan optik
Cerapan tenaga rendah 100-500V untuk bahan K rendah
Daya pemprosesan tinggi dalam mod Semakan Kecacatan Automatik
Analisis Kecacatan Auto
Operasi jauh tersedia
Pengimejan VC & HAR yang unggul
Contoh pemerhatian kecacatan corak oleh JWS-3000
JWS-3000 boleh mendapatkan maklumat berguna untuk meningkatkan hasil dalam proses pembuatan. Punca kecacatan dan zarah boleh diperhatikan pada pembesaran tinggi serta pelbagai perubahan sudut kecondongan dan putaran.
spesifikasi
| Resolusi | 3 nm (pada 1kV), 5 nm (pada 300 V) |
|---|---|
| Voltan Pecutan | 100 V hingga 20 kV |
| Pembesaran Pemerhatian | x 100 hingga x 500,000 |
| Masa latihan | XY: 300 mm, T: 45°, R: 360° |
| Saiz sampel | 300 mm (untuk 200 mm juga boleh) |
| ADR（mati untuk mati） | 750dph (sampel standard JEOL) |
Maklumat lanjut
Adakah anda seorang profesional perubatan atau kakitangan yang terlibat dalam penjagaan perubatan?
Tidak
Sila diingatkan bahawa halaman ini tidak bertujuan untuk memberikan maklumat tentang produk kepada orang ramai.