Sumber Rasuk Elektron untuk Penyejatan
Apakah sumber pancaran elektron untuk penyejatan?
Pemendapan rasuk elektron adalah untuk menyinari rasuk elektron yang dihasilkan daripada sumber elektron dalam vakum kepada bahan penyejatan, kemudian memanaskan dan menyejatkannya untuk membentuk filem nipis pada substrat, kanta, dan objek lain yang akan dimendapkan. Sumber pancaran elektron pesongan yang diletakkan dalam peralatan vakum, digunakan dalam pelbagai bidang. Di sini, kami memperkenalkan sumber pancaran elektron pesongan. Sebaliknya, sumber pancaran elektron berkuasa tinggi yang besar dan dengan kuasa tinggi, mampu pemendapan berkelajuan tinggi, digunakan untuk filem panjang dan substrat kawasan yang besar. Sila rujuk halaman maklumat teknikal untuk sumber pancaran elektron berkuasa tinggi.
Gambaran keseluruhan penyejatan rasuk elektron
Sumber pancaran elektron pesongan
Sumber pancaran elektron pesongan terdiri daripada dua bahagian. Salah satunya ialah sumber pancaran elektron yang dibina ke dalam peralatan penyejatan vakum, yang menjana elektron dan kemudian memecut dan memesongkannya sebagai pancaran elektron. Dan satu lagi ialah bahagian pijar (perapian), yang memegang bahan penyejatan. Sumber rasuk elektron juga dipanggil sumber E, sumber EB, dan sumber rasuk elektron jenis E.
Rajah berikut menunjukkan imej peranti penyejatan rasuk elektron.
Ciri-ciri penyejatan rasuk elektron
Sumber pemanasan ialah tenaga kinetik elektron. Oleh kerana pemanasan langsung bahan penyejatan, ia adalah cekap.
Oleh kerana ketumpatan kuasa pancaran elektron adalah besar, membolehkan penyejatan pelbagai bahan termasuk logam takat lebur tinggi, oksida, sebatian dan sublimat. Rasuk elektron boleh dikawal dengan tepat dalam medan elektrik dan medan magnet. Pengimbasan rasuk elektron berkelajuan tinggi dalam julat tertentu adalah mungkin, membolehkan penyinaran rasuk dengan ketumpatan kuasa optimum untuk bahan penyejatan. Rasuk elektron dipesongkan sama ada 270 darjah atau 180 darjah dan kemudian disinari kepada bahan penyejatan.
Ia digunakan dalam vakum tinggi (10-2Pa hingga 10-5Pa atau lebih). Nota: Jenis vakum ultra tinggi juga tersedia.
Penggunaan lebih daripada satu pijar dan sumber penyejatan membolehkan pemendapan filem berbilang lapisan dengan memproses sekali.
Perbandingan kaedah pemendapan dan struktur sumber pancaran elektron
Perbandingan dengan kaedah pemendapan lain
Kadar pemendapan adalah lebih tinggi daripada kaedah sputtering atau kaedah CVD (chemical wap deposition).
Ia boleh mencipta filem tebal melebihi 1 um dengan mudah.
Pemendapan logam takat lebur tinggi atau oksida logam takat lebur tinggi adalah mungkin, yang tidak mungkin (atau sukar) dengan kaedah pemanasan rintangan atau kaedah pemanasan aruhan.
Memandangkan pemanasan serta-merta dan perubahan kuasa boleh dilakukan oleh rasuk elektron, kawalan ketebalan filem yang tepat adalah mungkin, yang sukar dengan kaedah pemanasan rintangan atau kaedah pemanasan aruhan.
(Pengawal ketebalan filem membenarkan kawalan untuk ketebalan filem atau kadar pemendapan yang dikehendaki)
Oleh kerana bahan penyejatan dalam mangkuk pijar yang disejukkan air dipanaskan terus oleh rasuk elektron, bahan penyejatan tidak dicemari oleh bahan pijar. (Bebas daripada pencampuran kekotoran atau mencipta aloi).*XNUMX
Kaedah pemanasan rintangan atau kaedah pemanasan aruhan boleh menyebabkan kimpalan atau tindak balas dengan bot penyejatan atau mangkuk pijar.
Nota 1. Walaupun kaedah pancaran elektron digunakan, penggunaan pelapik perapian dalam mangkuk pijar yang disejukkan air boleh menyebabkan kimpalan atau tindak balas dengan bahan pelapik. Jadi, perhatian amat diperlukan.
Struktur Sumber Rasuk Elektron
- Filamen ditenagakan dan dipanaskan untuk memancarkan elektron haba.
- Voltan tinggi negatif (normal -4 hingga -10 kV) digunakan pada filamen, mempercepatkan elektron terma dengan perbezaan voltan terhadap anod.
- Elektron yang melompat keluar terpesong dalam medan magnet (oleh magnet kekal atau elektromagnet) dan disinari kepada bahan penyejatan dalam mangkuk pijar.
- Arus elektrik dialirkan ke gegelung imbasan seperti yang diperlukan supaya rasuk elektron diimbas untuk mengembangkan kawasan penyinaran.
Bidang Penggunaan Penyejatan Rasuk Elektron
Aplikasi
1) Filem optik/Filem Oksida
Filem nipis optik pelbagai ciri boleh disediakan dengan mendeposit dan melamina oksida logam indeks biasan yang berbeza, termasuk filem kalis pantulan atau filem penapis/filem cermin yang membolehkan penghantaran atau pantulan jalur panjang gelombang tertentu.
Sebagai satu contoh, ciri apabila penapis potong sinar inframerah didepositkan pada substrat kaca ditunjukkan.
Ia menjadikan cahaya boleh dilihat dihantar dan sinar inframerah dipantulkan. Memandangkan ia menghalang sinar inframerah (wayar panas) daripada dihantar, ia juga dipanggil penapis sejuk.
Sebagai filem nipis oksida, ia juga digunakan untuk filem perlindungan, filem penebat, dan filem konduktif telus, dsb.
[Contoh Produk Akhir]
Cermin mata, kamera (kamera digital/kamera video/kamera telefon bimbit), projektor LCD, peranti Sinar Biru/DVD/CD, laser semikonduktor, gentian optik, filem penghalang gas, dsb.
2) Filem logam
Untuk membentuk elektrod dan filem pendawaian untuk peranti kuasa dan elemen LED, bahan logam rintangan rendah didepositkan. Selain itu, ia digunakan dalam filem hiasan, filem perisai gelombang elektromagnet, filem tegar, dan cermin pantulan, dll.
[Contoh Produk Akhir]
LED, laser semikonduktor, peranti kuasa, penapis SAW (gelombang akustik permukaan), EL organik, EL tak organik, bateri litium-ion, pemeluwap filem, konsol untuk PC dan telefon bimbit, jam tangan/barangan perhiasan, alat, dsb.